减小光刻中驻波效应的新方法研究
Study on New Method of Reducing Standing Wave Effects in Lithography
<<微细加工技术 >>2002年04期
肖啸 , 杜惊雷 , 郭永康 , 杨静 , 谢世伟
光刻过程中,抗蚀剂内部光敏混合物(PAC)浓度受光场的影响呈驻波分布,导致抗蚀剂显影后的侧壁轮廓成锯齿状.分析了后烘(PEB)对PAC浓度分布的影响,模拟了不同后烘扩散长度下的抗蚀剂显影轮廓,从模拟结果可知利用后烘可明显减小驻波效应,得到平滑的抗蚀剂显影轮廓,提高光刻质量.
关键词： 后烘(PEB) , 光敏混合物(PAC) , 驻波效应 , 模拟
